美光CEO：将向日本半导体工厂引入EUV光刻机

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日经中文网5月18日消息，美国半导体存储芯片制造商美光科技公司将在今后数年向日本广岛县的DRAM工厂等日本国内投资最多5000亿日元。在日本政府的支援政策下，美光将在广岛县的工厂引进最尖端的生产线。美光首席执行官（CEO）桑乔伊·莫罗特亚（SanjayMehrotra）在接受采访时透露了上述消息。公司还计划引进尖端的光刻设备，生产下一代的存储芯片。

莫罗特亚表示：“我们将在日本国内首次引进极紫外（EUV）光刻设备，自2026年左右开始生产最尖端产品”。美光到2025年将向日本引进极紫外光刻机，完善相关体制。但其并未透露日本政府的具体援助金额。

（文章来源：界面新闻）

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